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HYPOAllergenic Base & Primer Moisturizing Primer

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Informação sobre o produto
designação
Moisturizing Primer,
Linha
Base & Primer
Supralinha
Maquilhagem facial
Componentes
Ingredients: Aqua (Water), Cyclopentasiloxane, Cyclohexasiloxane, PEG-10
Dimethicone, Glycerin, Xylitylglucoside, Disteardimonium Hectorite, Aloe
Barbadensis Leaf Juice, Anhydroxylitol, Sodium Acrylates Copolymer,
Polymethylsilsesquioxane, Polysorbate 80, Stearoyl Inulin, Xylitol, Lecithin
Sodium Hyaluronate, Tocopherol, Ethylhexylglycerin, Triethoxycaprylylsilane,
Trimethoxycaprylylsilane, Mica, Tin Oxide, Phenoxyethanol, Potassium
Sorbate, Sodium Benzoate, CI 77491 (Iron Oxides), CI 77891 (Titanium
Dioxide)

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